Fabricación y Caracterización de Películas Delgadas de SiNx

  • Jorge de la Torre y Ramos
  • Claudia Sifuentes Gallardo
  • Manuel Gámez Medina
  • Maria Teresa Torres Herrera
  • Jesús Manuel Rivas Martínez
  • Manuel Reta Hernández
Palabras clave: Caracterización de películas delgadas, UVCVD, Películas delgadas de SINx

Resumen

En el presente trabajo se reporta la fabricación y caracterización de películas delgadas de nitruro de silicio por medio de la descomposición de silano (SiH4) y amoniaco (NH3), sobre diferentes sustratos como vidrio, silicio e ITO (óxido de indio dopado con dióxido de estaño); la deposición se lleva a cabo por medio de la técnica denominada deposición química en fase de vapor asistida por ultravioleta (UVCVD). Las características ópticas y eléctricas obtenidas indican un potencial interesante de este material para aplicaciones en celdas solares convencionales, incrementando la eficiencia de conversión, así como para celdas solares de tercera generación.

Publicado
2014-04-30
Cómo citar
de la Torre y Ramos, J., Sifuentes Gallardo, C., Gámez Medina, M., Torres Herrera, M. T., Rivas Martínez, J. M., & Reta Hernández, M. (2014). Fabricación y Caracterización de Películas Delgadas de SiNx. Difu100ci@, Revista De difusión científica, ingeniería Y tecnologías, 7(3), 2-6. Recuperado a partir de http://difu100cia.uaz.edu.mx/index.php/difuciencia/article/view/64

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