Fabricación y Caracterización de Películas Delgadas de SiNx
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Publicado:
Apr 30, 2014
Palabras clave:
Caracterización de películas delgadas, UVCVD, Películas delgadas de SINx
Contenido principal del artículo
Resumen
En el presente trabajo se reporta la fabricación y caracterización de películas delgadas de nitruro de silicio por medio de la descomposición de silano (SiH4) y amoniaco (NH3), sobre diferentes sustratos como vidrio, silicio e ITO (óxido de indio dopado con dióxido de estaño); la deposición se lleva a cabo por medio de la técnica denominada deposición química en fase de vapor asistida por ultravioleta (UVCVD). Las características ópticas y eléctricas obtenidas indican un potencial interesante de este material para aplicaciones en celdas solares convencionales, incrementando la eficiencia de conversión, así como para celdas solares de tercera generación.
Detalles del artículo
Cómo citar
de la Torre y Ramos, J., Sifuentes Gallardo, C., Gámez Medina, M., Torres Herrera, M. T., Rivas Martínez, J. M., & Reta Hernández, M. (2014). Fabricación y Caracterización de Películas Delgadas de SiNx. Difu100ci@, Revista De difusión científica, ingeniería Y tecnologías, 7(3), 2-6. Recuperado a partir de http://difu100cia.uaz.edu.mx/index.php/difuciencia/article/view/64
Sección
Artículos