Fabricación y Caracterización de Películas Delgadas de SiNx

Jorge  de la Torre y Ramos; Claudia  Sifuentes Gallardo; Manuel  Gámez Medina; Maria Teresa  Torres Herrera; Jesús Manuel  Rivas Martínez; Manuel  Reta Hernández

PDF (Español (España))

Published: Apr 30, 2014

Jorge de la Torre y Ramos

Claudia Sifuentes Gallardo

Manuel Gámez Medina

Maria Teresa Torres Herrera

Jesús Manuel Rivas Martínez

Manuel Reta Hernández

Abstract

En el presente trabajo se reporta la fabricación y caracterización de películas delgadas de nitruro de silicio por medio de la descomposición de silano (SiH4) y amoniaco (NH3), sobre diferentes sustratos como vidrio, silicio e ITO (óxido de indio dopado con dióxido de estaño); la deposición se lleva a cabo por medio de la técnica denominada deposición química en fase de vapor asistida por ultravioleta (UVCVD). Las características ópticas y eléctricas obtenidas indican un potencial interesante de este material para aplicaciones en celdas solares convencionales, incrementando la eficiencia de conversión, así como para celdas solares de tercera generación.

How to Cite

de la Torre y Ramos, J., Sifuentes Gallardo, C., Gámez Medina, M., Torres Herrera, M. T., Rivas Martínez, J. M., & Reta Hernández, M. (2014). Fabricación y Caracterización de Películas Delgadas de SiNx. Difu100ci@, Revista De difusión científica, ingeniería Y tecnologías, 7(3), 2-6. Retrieved from http://difu100cia.uaz.edu.mx/index.php/difuciencia/article/view/64

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Vol 7 No 3 (2014): Difu100ci@, Revista de difusión científica, ingeniería y tecnologías

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